एक धातु की सतह को पहले $\lambda_1 = 350 \ nm$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से और फिर $\lambda_2 = 540 \ nm$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से प्रकाशित किया जाता है। यह पाया गया है कि दोनों स्थितियों में फोटोइलेक्ट्रॉन की अधिकतम गति $2$ के गुणक से भिन्न है। धातु का कार्य फलन ($eV$ में) लगभग है: (फोटॉन की ऊर्जा $= \frac{1240}{\lambda \text{ (} nm \text{ में)}} \ eV$)

एक धातु का कार्य फलन (work function) $2.51 eV$ है। इसकी देहली आवृत्ति (threshold frequency) क्या है?

मर्करी लैंप फोटोइलेक्ट्रिक उत्सर्जन की आवृत्ति पर निर्भरता का अध्ययन करने के लिए एक सुविधाजनक स्रोत है,क्योंकि यह $UV$ से दृश्य स्पेक्ट्रम के लाल छोर तक कई स्पेक्ट्रल रेखाएं प्रदान करता है। रूबिडियम फोटोसेल के साथ हमारे प्रयोग में,मर्करी स्रोत की निम्नलिखित रेखाओं का उपयोग किया गया था:
$\lambda_1 = 3650 \,\mathring{A}, \lambda_2 = 4047 \,\mathring{A}, \lambda_3 = 4358 \,\mathring{A}, \lambda_4 = 5461 \,\mathring{A}, \lambda_5 = 6907 \,\mathring{A}$
उनके संबंधित स्टॉपिंग वोल्टेज इस प्रकार मापे गए थे:
$V_{01} = 1.28 \,V, V_{02} = 0.95 \,V, V_{03} = 0.74 \,V, V_{04} = 0.16 \,V, V_{05} = 0 \,V$
प्लांक नियतांक $h$,देहली आवृत्ति (threshold frequency) और पदार्थ के लिए कार्य फलन (work function) का मान ज्ञात कीजिए।

हाइड्रोजन परमाणु में एक इलेक्ट्रॉन दूसरी बोहर कक्षा से मूल अवस्था (ground state) में कूदता है, और दोनों अवस्थाओं की ऊर्जाओं के बीच का अंतर एक फोटॉन के रूप में विकीर्ण होता है। यह फोटॉन एक पदार्थ पर टकराता है। यदि पदार्थ का कार्य फलन (work function) $4.2 \ eV$ है, तो निरोधी विभव (stopping potential) क्या होगा ($V$ में)? ($n$-वीं कक्षा में इलेक्ट्रॉन की ऊर्जा $= -\frac{13.6}{n^2} \ eV$).

दो अलग-अलग फोटोइलेक्ट्रिक सतहों $A$ और $B$ के लिए आपतित विकिरण की आवृत्ति $(\nu)$ के फलन के रूप में निरोधी विभव (stopping potential,$V_s$) को आलेखित किया गया है। ग्राफ दर्शाते हैं कि $A$ का कार्य फलन (work function) है

जब $1.24 eV$ कार्य फलन वाली एक लक्ष्य सामग्री को $4.36 \times 10^{-7} m$ तरंगदैर्ध्य के प्रकाश से विकिरणित किया जाता है,तो फोटोइलेक्ट्रॉनों के उत्सर्जन को रोकने के लिए आवश्यक मंदक विभव (retarding potential) क्या है ($eV$ में)?